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真空鍍膜與您分享

pvd是英文physical vapor deition物---相沉積的縮寫，是指在真空條件下，真空鍍膜材料，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

pvd技術的發展

pvd技術出現于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、---的耐磨性和化學穩定性等優點。在高速具領域的成功應用引起了制造業的高度重視，人們在開發、高---性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了深入的涂層應用研究。與 cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，真空鍍膜加工廠，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層； pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色制造的發展方向。目前pvd涂層技術已普遍應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，杭州真空鍍膜，涂層成分也由代的tin發展為tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta－c等多元復合涂層。