隨著現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)的發(fā)展,薄膜科學(xué)已成為近年來迅速發(fā)展的學(xué)科領(lǐng)域之一,是凝聚態(tài)物理學(xué)和材料科學(xué)的一個(gè)重要研究領(lǐng)域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面,它不僅具有豐富的物理內(nèi)涵,而且在微電子、光電子、超導(dǎo)材料等領(lǐng)域具有十分廣泛的應(yīng)用。長期以來,人們發(fā)明了多種制膜技術(shù)和方法:真空蒸發(fā)沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點(diǎn),并在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。但由于其各有局限性,仍然不能滿足薄膜研究的發(fā)展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術(shù)和設(shè)備的發(fā)展,---是高功率脈沖激光技術(shù)的發(fā)展,脈沖激光沉積pld技術(shù)的特點(diǎn)逐漸被人們認(rèn)識(shí)和接受
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1. 易獲得期望化學(xué)計(jì)量比的多組分薄膜,即具有---的保成分性;
2. 沉積速率高,試驗(yàn)周期短,襯底溫度要求低,激光脈沖沉積裝置多少錢,制備的薄膜均勻;
3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié),對(duì)靶材的種類沒有---;
4. 發(fā)展?jié)摿?--,具有---的兼容性;
5. 便于清潔處理,可以制備多種薄膜材料。
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1.靶: 數(shù)量6個(gè),大小1-2英寸,被激光照射時(shí)可自動(dòng)旋轉(zhuǎn),靶的選擇可通過步進(jìn)電機(jī)控制;
2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達(dá)1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時(shí)基板可旋轉(zhuǎn),工作環(huán)境的壓力可達(dá)300mtorr;
3.基板加熱電源,高到1200度;
4.真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光,本底真空度<5e-8 pa;
5.樣品搬運(yùn)室:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光,本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機(jī)械泵;
7.閥門: 采用真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計(jì);
9.氣路兩套: 采用氣體流量計(jì)控制;
10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分rheed;
11.監(jiān)控系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定,基板和靶的旋轉(zhuǎn),靶的更換等;
12.各種電流導(dǎo)入及測溫端子;
13.其它各種構(gòu)造:各種真空位移臺(tái),激光脈沖沉積裝置,磁力傳輸桿,真空法蘭,真空密封墊圈,真空用波紋管等;
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