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化學(xué)氣相沉積裝置主要的元件就是反應(yīng)器。按照反應(yīng)器結(jié)構(gòu)上的差別，氣相化學(xué)沉積設(shè)備價格，我們可以把化學(xué)氣相沉積技術(shù)分成開管/封管氣流法兩種類型：
1 封管法這種反應(yīng)方式是將一定量的反應(yīng)物質(zhì)和集體放置于反應(yīng)器的兩邊，氣相化學(xué)沉積設(shè)備廠家，將反應(yīng)器中---真空， 再向其中注入部分輸運氣體，然后再次密封， 再控制反應(yīng)器兩端的溫度使其有一定差別，它的優(yōu)點是：能有效夠避免外部污染；無須持續(xù)抽氣就能使是內(nèi)部保持真空。
2 開管法這種制備方法的特點是反應(yīng)氣體混合物能夠---補充。廢氣也可以及時排出反應(yīng)裝置。以加熱方法為區(qū)分，開管氣流法應(yīng)分為熱壁和冷壁兩種。前者的加熱會讓整個沉積室壁都會因此變熱，所以管壁上同樣會發(fā)生沉積。冷壁式加熱一般會使用感應(yīng)加熱、通電加熱以及紅外加熱等等。
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鈀的化學(xué)氣相沉積pd 及其合金對氫氣有著極強的吸附作用以及---的選擇滲透性能，氣相化學(xué)沉積設(shè)備，是一種存儲或者凈---氣的理想材料。對于pd 的使用大多是將鈀合金或是鈀鍍層生產(chǎn)氫凈化設(shè)備 。也有些學(xué)者使用化學(xué)氣相沉積法將鈀制成薄膜或薄層。具體做法是使用分解溫度極低的金屬有機化合物當(dāng)做制備鈀的材料，具體包括：---pdη-c3h5 η-c5h5以及 pdη-c3h5cf3cochcocf3之類的材料，使用這種方式能夠制取出純度---的鈀薄膜。
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由于等離子刻蝕工藝中的過程變量，氣相化學(xué)沉積設(shè)備，如刻蝕率、氣壓、溫度、等離子阻抗，等等，不易測量，因此業(yè)界常用的測量方法有：
虛擬測量virtual metrology
等離子刻蝕過程控制示意圖
光譜測量
等離子阻抗監(jiān)控
終端探測
遠程耦合傳感
控制方法
run-to-run 控制r2r
模型預(yù)測控制mpc
人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)控制
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