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---真空度：≤6.7×10 pa
恢復(fù)真空時(shí)間：從1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7pa.l/s；
真空室：ф450球型真空室 ，
基片尺寸：可放置4″可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶位描等基片加熱可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm可調(diào)�！ �
二維掃描機(jī)械平臺(tái)，執(zhí)行兩自由度掃描，控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶、靶自轉(zhuǎn)、樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃，
流量控制器1路
烘烤溫度：150℃數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫高溫爐盤(pán)，脈沖激光沉積設(shè)備公司，數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫可加熱到800℃
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脈沖激光沉積系統(tǒng)配置：
生長(zhǎng)室，進(jìn)樣室可選水平、垂直兩種靶臺(tái)可選激光加熱和輻射加熱兩種樣品臺(tái)可選，激光加熱高的溫度1200℃工藝氣路可以任意搭配配備高壓rheed，工作氣壓可達(dá)100pa可預(yù)留法蘭，用于leed，脈沖激光沉積設(shè)備，k-cell， e-beam等其它可選項(xiàng)如臭氧發(fā)生器，離子源，掩膜系統(tǒng)等。
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是比較理想的薄膜與涂層合成設(shè)備�？芍苽涞谋∧ぐǖ�、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2d材料。blue wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測(cè)工具。此外，bluewave還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無(wú)定型或納米晶si/sic、晶體aln-gan、聚合物、納米鉆石、hfcvd鉆石涂層以及器件加工。
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