涂層技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，鍍膜設備，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca)配有的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%，手機鍍膜設備，并且可以過濾掉大顆粒，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。
直流等離子體化學氣相沉積dc-pcvd
dc-pcvd是利用高壓直流負偏壓-1～-5kv，使低壓反應氣體發生輝光放電產生等離子體，等離子體在電場作用下轟擊工件，并在工件表面沉積成膜。
直流等離子體比較簡單，工件處于陰極電位，受其外形、大小的影響，使電場分布不均勻，在陰極四周壓降，電場強度，正由于有這一特點，所以化學反應也集中在陰極工件表面，加強了沉積效率，避免了反應物質在器壁上的消耗。缺點是不導電的基體或薄膜不能應用。由于陰極上電荷的積累會排斥進一步的沉積，并會造成積累放電，手機鍍膜設備多少錢，破壞正常的反應。
射頻等離子體增強化學氣相沉積rf-pcvd
在低壓容器的兩極上加高頻電壓則產生射頻放電形成等離子體，射頻電源通常采用電容耦合或電感耦合方式，其中又可分為電極式和無電極式結構，電極式一般采用平板式或熱管式結構，優點是可容納較多工件，但這種裝置中的分解率遠低于1%，即等離子體的內能不高。電極式裝置設在反應容器外時，主要為感應線圈，如圖5，也叫無極環形放電，射頻頻率為13.56mhz。
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