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金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
簡單說的話,例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜......鋁膜等。更換不同的靶材如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等,江蘇純鈀靶材,即可得到不同的膜系如超硬、耐磨、防腐的合金膜等。
應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層,筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等.
稀土金屬制取(preparation of rare earth metal),將稀土化合物還原成金屬的過程。還原所制得的稀土金屬產(chǎn)品含稀土95%~99%,主要用作鋼鐵、有色金屬及其合金的添加劑,以及用作生產(chǎn)稀土永磁材料、貯氫材料等功能材料的原料。瑞典人穆桑德爾(c.g.mosander)自1826年先制得金屬以來,純鈀靶材回收,現(xiàn)已能生產(chǎn)全部稀土金屬,產(chǎn)品純度達到99.9%。常用的方法有金屬熱還原法制取稀土金屬和熔鹽電解法制取稀土金屬 。
濺射技術(shù):濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速-,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,純鈀靶材生產(chǎn)加工,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。
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