光刻膠經過幾十年不斷的發展和進步，應用領域不斷擴大，nr29 25000p光刻膠，衍生出非常多的種類，按照應用領域，光刻膠可以劃分為印刷電路板(pcb)用光刻膠、液晶顯示(lcd)用光刻膠、半導體用光刻膠和其他用途光刻膠。其中，pcb 光刻膠技術壁壘相對其他兩類較低，而半導體光刻膠代表著光刻膠技術水平。
(1)半導體用光刻膠
在半導體用光刻膠領域，光刻技術經歷了紫外全譜(300～450nm)、g 線(436nm)、i 線 (365nm)、深紫外(duv，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(euv)六個階段。相對應于各-波長的光刻膠也應運而生，nr29 25000p光刻膠報價，光刻膠中的關鍵配方成份，如成膜樹脂、光引發劑、添加劑也隨之發生變化，使光刻膠的綜合性能-地滿足工藝要求。
(2)lcd光刻膠
在lcd 面板制造領域，光刻膠也是極其關鍵的材料。根據使用對象的不同，nr29 25000p光刻膠，可分為 rgb 膠(彩色膠)、bm膠(黑色膠)、oc 膠、ps 膠、tft 膠等。
光刻工藝包含表面準備、涂覆光刻膠、前烘、對準-、顯影、堅膜、顯影檢查、刻蝕、剝離、終檢查等步驟，以實現圖形的轉移，制造特定的微結構。
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一般來說線寬的用正膠，線窄的用負膠，正性光刻膠比負性的精度要高，負膠顯-圖形有漲縮，負性膠-在2~3μm.，而正性膠的分辨力優于0.5μm 導致影響精度，正性膠則無這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以-負性膠的分辨率，但是薄負性膠會影響。同種厚度的正負膠，在對于抗濕法和腐蝕性方面負膠-，正膠-。
光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外-或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應用于集成電路(ic)，封裝(packaging)，微機電系統(mems)，光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板顯示器(led，lcd，oled)，nr29 25000p光刻膠多少錢，太陽能光伏(solar pv)等領域。
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