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光刻開始于-種稱作光刻膠的感光性液體的應用。 圖形能被映射到光刻膠上，然后用一個developer就能做出需要的模板圖案。 光刻膠又稱光致抗蝕劑，以智能管感光材料，在光的照射與溶解度發生變化。
光刻膠成份
光刻膠通常有三種成分:感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時還包括增感劑。根據光刻膠按照如何響應紫外光的性可以分為兩類:負性光刻膠和正性光刻膠。
1、負性光刻膠
主要有聚酯膠和環化橡膠系兩大類，前者以柯達公司的kpr為代表，nr29 25000p光刻膠價格，后者以omr系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以-醌為感光化合物，以酚醛樹脂為基體材料。常用的有az- 1350系列。正膠的主要優點是分辨率高，缺點是靈敏度、而刻蝕性和附著性等較差。
光刻膠的特點
1、在光的照射下溶解速率發生變化，利用-區與非-區的溶解速率差來實現圖形的轉移;
2、溶解抑制/溶解促進共同作用;
3、作用的機理因光刻膠膠類型不同而不同;
光刻加工工藝中為了圖形轉移，輻照必須作用在光刻膠上，通過改變光刻膠材料的性質，使得在完成光刻工藝后，光刻版圖形被拷貝在圓片的表面。而加工前，如何選用光刻膠在很大程度上已經決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是較好的，但實際應用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮，需要對光刻膠進行合理的選擇。
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光刻是將圖形由掩膜版上轉移到硅片上，為后續的刻蝕步驟作準備。在光刻過程中，需在硅片上涂一層光刻膠，nr29 25000p光刻膠公司，經紫外線-后，光刻膠的化學性質發生變化，在通過顯-，被-的光刻膠將被去除，從而實現將電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上。再經過刻蝕過程，實現電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。在刻蝕過程中，光刻膠起防腐蝕的保護作用。
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