依據van deemeter 方程,隨著顆粒度的不斷降低,渦流擴散減小,分子傳質阻力減小,相應的理論塔板高度( hetp) 也下降,得到的柱效也更高,由于壓力與填料粒徑平方成反比,---孔結構硅膠,因此隨著粒徑減小壓力會急劇增加。從液相色譜出現至今,硅膠粒徑從100 μm左右降低到3-10 μm,再減小到亞2μm,其柱效由每米數十塔板數提高到3.2x105塔板數每米。液相色譜也從工業用常壓制備色譜發展到分析檢測用高壓hplc再到目前壓uplc。工業分離純化的粒徑在10微米以上,單分散球型硅膠,而常規hplc填料粒徑在3-5微米,uplc填料顆粒小于2μm。因此伴隨著越來越精細的硅膠色譜填料的使用,hplc分離分析性能也越來越好。亞2μm的硅膠填料的使用使得hplc的分辨率,檢測速度及柱效達到前
硅膠表面修飾和功化制備技術發展歷程:
硅膠基球是硅膠色譜填料發展的基礎,硅膠性能的---是源于對硅膠顆粒形貌結構、粒徑大小、粒徑分布、孔道結構、比表面積等的控制能力提高。硅膠表面改性和功能化是色譜分離模式賴以建立的基礎,其功能基團性質、種類、及密度會影響其分離的選擇性。隨著hplc 應用領域越來越廣,硅膠表面功能化種類也越來越多,且硅膠基球表面富含具有反應活性的硅---,因此可以通過化試劑與表面硅---反應引入不同的功能基團,以制備不同分離模式的色譜填料。
單分散是從英文monodisperse 翻譯過來的,在英文里monodisperse means particles have same size, shape/mass. 因此所謂單分散是指導顆粒具有相同的尺寸,形態和。單分散色譜填料是通常指微球的粒徑或直徑大小呈均一分布。單分散硅膠色譜填料一直是該領域科學家努力的目標,但單分散硅膠色譜填料產業化技術難度大,一直沒有突破。蘇州納微科技有限公司作為一家國內企業,成為上第